logo
Harga yang bagus  on line

rincian produk

Rumah > Produk >
Bahan Kimia Kelas Elektronik
>
Agen pembersih semikonduktor HFO-1233zd(Z) - Pembersihan presisi tingkat semikonduktor, berkelanjutan & sesuai dengan peraturan HCFC-141B Pengganti pembersih industri serbaguna

Agen pembersih semikonduktor HFO-1233zd(Z) - Pembersihan presisi tingkat semikonduktor, berkelanjutan & sesuai dengan peraturan HCFC-141B Pengganti pembersih industri serbaguna

Nama merek: Chemfine
Nomor Model: HFO-1233zd
MOQ: 1000KG
Ketentuan Pembayaran: L/C,T/T
Informasi Rinci
Tempat asal:
Cina
Menyoroti:

Pembersihan presisi tingkat semikonduktor HFO-1233zd(Z)

,

Penggantian HCFC-141B yang berkelanjutan & sesuai peraturan

,

Solusi pembersih industri serbaguna Agen pembersih semikonduktor

Deskripsi Produk
Penggantian Agen Pembersih Semikonduktor
Pengganti HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFC Cas 99728-16-2
Poin Penjualan Produk
  • Pengganti HCFC-141B yang Ideal: HFO-1233zd(Z) kami menawarkan kinerja pembersihan yang setara dengan HCFC-141B dengan profil lingkungan yang unggul, menjadikannya pengganti langsung yang sempurna untuk proses pembersihan yang ada.
  • Pembersihan Presisi Tingkat Semikonduktor: Dengan kemurnian ultra-tinggi dan tingkat pengotor yang terkontrol, CAS 99728-16-2 kami dirancang khusus untuk pembersihan wafer semikonduktor, pengupasan fotoresis, dan pembersihan komponen elektronik presisi.
  • Berkelanjutan & Sesuai Regulasi: Potensi penipisan ozon nol dan potensi pemanasan global ultra-rendah, sepenuhnya sesuai dengan Protokol Montreal, peraturan EU F-Gas, dan program US EPA SNAP.
  • Solusi Pembersihan Industri Serbaguna: Cocok untuk berbagai aplikasi termasuk penghilangan gemuk logam, pembersihan komponen kedirgantaraan, penghilangan gemuk uap, dan sistem pembersihan berbasis pelarut.
  • Aman dan Mudah Ditangani: Tidak mudah terbakar, toksisitas rendah, kompatibel dengan sebagian besar bahan umum yang digunakan dalam peralatan pembersihan industri, mengurangi risiko operasional dan menyederhanakan integrasi proses.
Pengantar Produk
HFO-1233zd(Z), juga dikenal sebagai Cis-1-kloro-3,3,3-trifluoropropena, diidentifikasi dengan Nomor CAS 99728-16-2. Ini adalah pelarut hidrofluoroolefin (HFO) generasi berikutnya yang ramah lingkungan, yang dikembangkan khusus sebagai pengganti berkinerja tinggi untuk HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39, dan HCFC perusak ozon lainnya serta pelarut terfluorinasi dengan GWP tinggi.
Dengan potensi penipisan ozon (ODP) nol, potensi pemanasan global (GWP) ultra-rendah, dan daya pelarutan yang sangat baik, HFO-1233zd(Z) telah menjadi agen pembersih pilihan untuk industri manufaktur semikonduktor dan elektronik. Ini banyak digunakan dalam pembersihan presisi, penghilangan gemuk uap, penghilangan residu fotoresis, dan proses pembersihan industri kritis lainnya, memberikan kinerja pembersihan yang andal sambil membantu produsen memenuhi peraturan lingkungan global.
Aplikasi Rinci
Manufaktur Semikonduktor & Elektronik
Penggunaan utama untuk pembersihan presisi wafer semikonduktor, menghilangkan residu fotoresis, kontaminan organik, dan partikel halus dari wafer dan komponen elektronik; ideal untuk proses pembersihan tingkat ruang bersih.
Penghilangan Gemuk Uap Industri
Digunakan dalam sistem penghilangan gemuk uap untuk komponen logam, plastik, dan keramik, secara efektif menghilangkan minyak, gemuk, residu fluks, dan cairan pemesinan.
Kedirgantaraan & Teknik Presisi
Untuk pembersihan komponen kedirgantaraan presisi tinggi, suku cadang optik, dan perangkat medis, memastikan tanpa residu dan standar kebersihan tinggi.
Bahan Pembantu Pendingin & Peniup Busa
Juga digunakan sebagai agen peniup dengan GWP rendah untuk busa poliuretan dan sebagai komponen dalam campuran pendingin dengan GWP rendah.
Pembersihan Industri Umum
Cocok untuk penghilangan gemuk tugas berat, pembersihan papan sirkuit, dan aplikasi pembersihan industri lainnya yang membutuhkan daya pelarutan tinggi dan kepatuhan lingkungan.
Sifat Fisik Dasar
PropertiNilai/Deskripsi
Nomor CAS99728-16-2
Nama KimiaCis-1-kloro-3,3,3-trifluoropropena (HFO-1233zd(Z))
Rumus Molekul(Z)-CF3CH=CHCl
Berat Molekul130,5 g/mol
Titik Didih (1 atm)39,0 °C
Titik Leleh-101,0 °C
Kepadatan Cairan (20°C, 760 mmHg)1,312±0,06 g/cm³
Viskositas pada 25°C0,37 mPa·s
Tekanan Uap pada 20°C49 kPa
Kelarutan dalam Air950 ppm
Titik NyalaTidak Ada
Nilai KB34
Spesifikasi Teknis
ITEMSPESIFIKASIHASIL STANDAR
Kemurnian (Berat%)≥99,8≥99,8
Kelembaban (Berat%)≤0,002≤0,002
Keasaman (sebagai HCl, Berat%)≤0,0001≤0,0001
Residu Penguapan (Berat%)≤0,01≤0,01
Tes KloridaLulusLulus
Aplikasi Khusus
Pembersihan Wafer Semikonduktor
HFO-1233zd(Z) kami diformulasikan khusus untuk persyaratan ketat manufaktur semikonduktor, secara efektif menghilangkan residu fotoresis, kontaminan organik, dan partikel sub-mikron dari wafer silikon tanpa merusak struktur wafer yang rapuh. Kemurniannya yang ultra-tinggi memastikan tidak ada kontaminasi, menjadikannya ideal untuk produksi semikonduktor node canggih.
Penghilangan Gemuk Uap Presisi
Dengan titik didih yang sesuai dan daya pelarutan yang sangat baik, HFO-1233zd(Z) sangat cocok untuk sistem penghilangan gemuk uap, memberikan pembersihan yang cepat dan bebas residu untuk komponen logam, plastik, dan keramik di industri otomotif, kedirgantaraan, dan elektronik. Sifatnya yang tidak mudah terbakar memastikan operasi yang aman dalam peralatan penghilangan gemuk bersuhu tinggi.
Pengganti Pelarut HCFC-141B & GWP Tinggi
Sebagai pengganti langsung untuk HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39, dan pelarut terfluorinasi GWP tinggi lainnya, HFO-1233zd(Z) kami mempertahankan kinerja pembersihan yang setara sambil menghilangkan risiko penipisan ozon dan mengurangi jejak karbon, membantu produsen bertransisi dengan lancar ke proses pembersihan yang sesuai dengan lingkungan tanpa modifikasi peralatan yang mahal.
Pengemasan & Logistik
Pengemasan Standar: Drum baja 25 kg yang disetujui PBB, drum baja 250 kg, atau tangki IBC 1000 kg.
Penyimpanan: Simpan di gudang yang sejuk, kering, dan berventilasi baik. Jauhkan dari sinar matahari langsung, sumber panas, dan bahan yang tidak kompatibel.
Kelas Keamanan: Bahan kimia tidak mudah terbakar, toksisitas rendah, sesuai dengan peraturan transportasi internasional untuk barang berbahaya.
Sinonim
Cis-1-kloro-3,3,3-trifluoropropena; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; Pengganti HCFC-141B; CAS 99728-16-2
Pertanyaan yang Sering Diajukan
T: Apakah HFO-1233zd(Z) pengganti langsung untuk HCFC-141B?
J: Ya, HFO-1233zd(Z) memiliki daya pelarutan, titik didih, dan kompatibilitas material yang serupa dengan HCFC-141B, menjadikannya pengganti langsung untuk sebagian besar proses pembersihan dan penghilangan gemuk yang ada, dengan modifikasi peralatan minimal atau tanpa modifikasi yang diperlukan.
T: Apa profil lingkungan HFO-1233zd(Z)?
J: HFO-1233zd(Z) memiliki potensi penipisan ozon (ODP) nol dan potensi pemanasan global (GWP) ultra-rendah kurang dari 1, menjadikannya sepenuhnya sesuai dengan Protokol Montreal, peraturan EU F-Gas, dan program US EPA SNAP untuk digunakan sebagai pelarut pembersih.
T: Apakah HFO-1233zd(Z) mudah terbakar?
J: Tidak, HFO-1233zd(Z) tidak memiliki titik nyala, menjadikannya tidak mudah terbakar dalam kondisi operasi normal, yang secara signifikan mengurangi bahaya kebakaran di fasilitas pembersihan dan manufaktur industri.
T: Tingkat kemurnian HFO-1233zd(Z) apa yang Anda tawarkan?
J: Kami menawarkan tingkat industri standar (kemurnian ≥99,5%) dan tingkat elektronik/semikonduktor (kemurnian ≥99,8%) HFO-1233zd(Z), dengan kontrol ketat terhadap kelembaban, keasaman, dan pengotor sisa untuk memenuhi kebutuhan aplikasi yang berbeda.
Harga yang bagus  on line

rincian produk

Rumah > Produk >
Bahan Kimia Kelas Elektronik
>
Agen pembersih semikonduktor HFO-1233zd(Z) - Pembersihan presisi tingkat semikonduktor, berkelanjutan & sesuai dengan peraturan HCFC-141B Pengganti pembersih industri serbaguna

Agen pembersih semikonduktor HFO-1233zd(Z) - Pembersihan presisi tingkat semikonduktor, berkelanjutan & sesuai dengan peraturan HCFC-141B Pengganti pembersih industri serbaguna

Nama merek: Chemfine
Nomor Model: HFO-1233zd
MOQ: 1000KG
Ketentuan Pembayaran: L/C,T/T
Informasi Rinci
Tempat asal:
Cina
Nama merek:
Chemfine
Nomor model:
HFO-1233zd
Kuantitas min Order:
1000KG
Syarat-syarat pembayaran:
L/C,T/T
Menyoroti:

Pembersihan presisi tingkat semikonduktor HFO-1233zd(Z)

,

Penggantian HCFC-141B yang berkelanjutan & sesuai peraturan

,

Solusi pembersih industri serbaguna Agen pembersih semikonduktor

Deskripsi Produk
Penggantian Agen Pembersih Semikonduktor
Pengganti HCFC-141B HFO-1233zd HFO-1336mz FS-39 HCFC Cas 99728-16-2
Poin Penjualan Produk
  • Pengganti HCFC-141B yang Ideal: HFO-1233zd(Z) kami menawarkan kinerja pembersihan yang setara dengan HCFC-141B dengan profil lingkungan yang unggul, menjadikannya pengganti langsung yang sempurna untuk proses pembersihan yang ada.
  • Pembersihan Presisi Tingkat Semikonduktor: Dengan kemurnian ultra-tinggi dan tingkat pengotor yang terkontrol, CAS 99728-16-2 kami dirancang khusus untuk pembersihan wafer semikonduktor, pengupasan fotoresis, dan pembersihan komponen elektronik presisi.
  • Berkelanjutan & Sesuai Regulasi: Potensi penipisan ozon nol dan potensi pemanasan global ultra-rendah, sepenuhnya sesuai dengan Protokol Montreal, peraturan EU F-Gas, dan program US EPA SNAP.
  • Solusi Pembersihan Industri Serbaguna: Cocok untuk berbagai aplikasi termasuk penghilangan gemuk logam, pembersihan komponen kedirgantaraan, penghilangan gemuk uap, dan sistem pembersihan berbasis pelarut.
  • Aman dan Mudah Ditangani: Tidak mudah terbakar, toksisitas rendah, kompatibel dengan sebagian besar bahan umum yang digunakan dalam peralatan pembersihan industri, mengurangi risiko operasional dan menyederhanakan integrasi proses.
Pengantar Produk
HFO-1233zd(Z), juga dikenal sebagai Cis-1-kloro-3,3,3-trifluoropropena, diidentifikasi dengan Nomor CAS 99728-16-2. Ini adalah pelarut hidrofluoroolefin (HFO) generasi berikutnya yang ramah lingkungan, yang dikembangkan khusus sebagai pengganti berkinerja tinggi untuk HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39, dan HCFC perusak ozon lainnya serta pelarut terfluorinasi dengan GWP tinggi.
Dengan potensi penipisan ozon (ODP) nol, potensi pemanasan global (GWP) ultra-rendah, dan daya pelarutan yang sangat baik, HFO-1233zd(Z) telah menjadi agen pembersih pilihan untuk industri manufaktur semikonduktor dan elektronik. Ini banyak digunakan dalam pembersihan presisi, penghilangan gemuk uap, penghilangan residu fotoresis, dan proses pembersihan industri kritis lainnya, memberikan kinerja pembersihan yang andal sambil membantu produsen memenuhi peraturan lingkungan global.
Aplikasi Rinci
Manufaktur Semikonduktor & Elektronik
Penggunaan utama untuk pembersihan presisi wafer semikonduktor, menghilangkan residu fotoresis, kontaminan organik, dan partikel halus dari wafer dan komponen elektronik; ideal untuk proses pembersihan tingkat ruang bersih.
Penghilangan Gemuk Uap Industri
Digunakan dalam sistem penghilangan gemuk uap untuk komponen logam, plastik, dan keramik, secara efektif menghilangkan minyak, gemuk, residu fluks, dan cairan pemesinan.
Kedirgantaraan & Teknik Presisi
Untuk pembersihan komponen kedirgantaraan presisi tinggi, suku cadang optik, dan perangkat medis, memastikan tanpa residu dan standar kebersihan tinggi.
Bahan Pembantu Pendingin & Peniup Busa
Juga digunakan sebagai agen peniup dengan GWP rendah untuk busa poliuretan dan sebagai komponen dalam campuran pendingin dengan GWP rendah.
Pembersihan Industri Umum
Cocok untuk penghilangan gemuk tugas berat, pembersihan papan sirkuit, dan aplikasi pembersihan industri lainnya yang membutuhkan daya pelarutan tinggi dan kepatuhan lingkungan.
Sifat Fisik Dasar
PropertiNilai/Deskripsi
Nomor CAS99728-16-2
Nama KimiaCis-1-kloro-3,3,3-trifluoropropena (HFO-1233zd(Z))
Rumus Molekul(Z)-CF3CH=CHCl
Berat Molekul130,5 g/mol
Titik Didih (1 atm)39,0 °C
Titik Leleh-101,0 °C
Kepadatan Cairan (20°C, 760 mmHg)1,312±0,06 g/cm³
Viskositas pada 25°C0,37 mPa·s
Tekanan Uap pada 20°C49 kPa
Kelarutan dalam Air950 ppm
Titik NyalaTidak Ada
Nilai KB34
Spesifikasi Teknis
ITEMSPESIFIKASIHASIL STANDAR
Kemurnian (Berat%)≥99,8≥99,8
Kelembaban (Berat%)≤0,002≤0,002
Keasaman (sebagai HCl, Berat%)≤0,0001≤0,0001
Residu Penguapan (Berat%)≤0,01≤0,01
Tes KloridaLulusLulus
Aplikasi Khusus
Pembersihan Wafer Semikonduktor
HFO-1233zd(Z) kami diformulasikan khusus untuk persyaratan ketat manufaktur semikonduktor, secara efektif menghilangkan residu fotoresis, kontaminan organik, dan partikel sub-mikron dari wafer silikon tanpa merusak struktur wafer yang rapuh. Kemurniannya yang ultra-tinggi memastikan tidak ada kontaminasi, menjadikannya ideal untuk produksi semikonduktor node canggih.
Penghilangan Gemuk Uap Presisi
Dengan titik didih yang sesuai dan daya pelarutan yang sangat baik, HFO-1233zd(Z) sangat cocok untuk sistem penghilangan gemuk uap, memberikan pembersihan yang cepat dan bebas residu untuk komponen logam, plastik, dan keramik di industri otomotif, kedirgantaraan, dan elektronik. Sifatnya yang tidak mudah terbakar memastikan operasi yang aman dalam peralatan penghilangan gemuk bersuhu tinggi.
Pengganti Pelarut HCFC-141B & GWP Tinggi
Sebagai pengganti langsung untuk HCFC-141B, HFO-1336mz, FS-39, dan pelarut terfluorinasi GWP tinggi lainnya, HFO-1233zd(Z) kami mempertahankan kinerja pembersihan yang setara sambil menghilangkan risiko penipisan ozon dan mengurangi jejak karbon, membantu produsen bertransisi dengan lancar ke proses pembersihan yang sesuai dengan lingkungan tanpa modifikasi peralatan yang mahal.
Pengemasan & Logistik
Pengemasan Standar: Drum baja 25 kg yang disetujui PBB, drum baja 250 kg, atau tangki IBC 1000 kg.
Penyimpanan: Simpan di gudang yang sejuk, kering, dan berventilasi baik. Jauhkan dari sinar matahari langsung, sumber panas, dan bahan yang tidak kompatibel.
Kelas Keamanan: Bahan kimia tidak mudah terbakar, toksisitas rendah, sesuai dengan peraturan transportasi internasional untuk barang berbahaya.
Sinonim
Cis-1-kloro-3,3,3-trifluoropropena; HFO-1233zd(Z); HFO-1233zd; Z-HFO-1233zd; Pengganti HCFC-141B; CAS 99728-16-2
Pertanyaan yang Sering Diajukan
T: Apakah HFO-1233zd(Z) pengganti langsung untuk HCFC-141B?
J: Ya, HFO-1233zd(Z) memiliki daya pelarutan, titik didih, dan kompatibilitas material yang serupa dengan HCFC-141B, menjadikannya pengganti langsung untuk sebagian besar proses pembersihan dan penghilangan gemuk yang ada, dengan modifikasi peralatan minimal atau tanpa modifikasi yang diperlukan.
T: Apa profil lingkungan HFO-1233zd(Z)?
J: HFO-1233zd(Z) memiliki potensi penipisan ozon (ODP) nol dan potensi pemanasan global (GWP) ultra-rendah kurang dari 1, menjadikannya sepenuhnya sesuai dengan Protokol Montreal, peraturan EU F-Gas, dan program US EPA SNAP untuk digunakan sebagai pelarut pembersih.
T: Apakah HFO-1233zd(Z) mudah terbakar?
J: Tidak, HFO-1233zd(Z) tidak memiliki titik nyala, menjadikannya tidak mudah terbakar dalam kondisi operasi normal, yang secara signifikan mengurangi bahaya kebakaran di fasilitas pembersihan dan manufaktur industri.
T: Tingkat kemurnian HFO-1233zd(Z) apa yang Anda tawarkan?
J: Kami menawarkan tingkat industri standar (kemurnian ≥99,5%) dan tingkat elektronik/semikonduktor (kemurnian ≥99,8%) HFO-1233zd(Z), dengan kontrol ketat terhadap kelembaban, keasaman, dan pengotor sisa untuk memenuhi kebutuhan aplikasi yang berbeda.